[发明专利]一种应用于气膜冷却技术的旋流冷气腔结构有效

专利信息
申请号: 201610147198.5 申请日: 2016-03-15
公开(公告)号: CN105840315B 公开(公告)日: 2017-10-31
发明(设计)人: 岳国强;向世建;王付凯;刘喆;杨昊;樊楚皓 申请(专利权)人: 哈尔滨工程大学
主分类号: F02C7/12 分类号: F02C7/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的目的在于提供一种应用于气膜冷却技术的旋流冷气腔结构,包括冷气导流段、漩涡发生段、圆柱气膜孔,冷气导流段和漩涡发生段相连,圆柱气膜孔安装在漩涡发生段上,冷气导流段为长方体结构,漩涡发生体为一侧具有倒圆角的长方体结构,圆柱气膜孔为圆柱体结构;漩涡发生段的倒圆角半径为R,圆柱气膜孔的直径为D,冷气导流段和漩涡发生段的高度之和为L2,冷气导流段截面的长为L4,冷气导流段截面的宽为W2,圆柱气膜孔与漩涡发生段相接触处到漩涡发生段三个边的垂直距离均为W1,W2/L4的值在1~4之间,L2的值在2~5倍D之间,R的值在0.5~1.0倍D之间,W1的值在0.1~0.5倍D之间。本发明既能保证冷却效果又能克服加工制造和结构强度困难。
搜索关键词: 一种 应用于 冷却 技术 冷气 结构
【主权项】:
一种应用于气膜冷却技术的旋流冷气腔结构,其特征是:包括冷气导流段、漩涡发生段、圆柱气膜孔,冷气导流段和漩涡发生段相连,圆柱气膜孔安装在漩涡发生段上,冷气导流段为长方体结构,漩涡发生体为一侧具有倒圆角的长方体结构,圆柱气膜孔为圆柱体结构;漩涡发生段的倒圆角半径为R,圆柱气膜孔的直径为D,冷气导流段和漩涡发生段的高度之和为L2,冷气导流段截面的长为L4,冷气导流段截面的宽为W2,圆柱气膜孔与漩涡发生段相接触处到漩涡发生段三个边的垂直距离均为W1,W2/L4的值在1~4之间,L2的值在2~5倍D之间,R的值在0.5~1.0倍D之间,W1的值在0.1~0.5倍D之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工程大学,未经哈尔滨工程大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610147198.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code