[发明专利]一种应用于气膜冷却技术的旋流冷气腔结构有效
申请号: | 201610147198.5 | 申请日: | 2016-03-15 |
公开(公告)号: | CN105840315B | 公开(公告)日: | 2017-10-31 |
发明(设计)人: | 岳国强;向世建;王付凯;刘喆;杨昊;樊楚皓 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工程大学 |
主分类号: | F02C7/12 | 分类号: | F02C7/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种应用于气膜冷却技术的旋流冷气腔结构,包括冷气导流段、漩涡发生段、圆柱气膜孔,冷气导流段和漩涡发生段相连,圆柱气膜孔安装在漩涡发生段上,冷气导流段为长方体结构,漩涡发生体为一侧具有倒圆角的长方体结构,圆柱气膜孔为圆柱体结构;漩涡发生段的倒圆角半径为R,圆柱气膜孔的直径为D,冷气导流段和漩涡发生段的高度之和为L2,冷气导流段截面的长为L4,冷气导流段截面的宽为W2,圆柱气膜孔与漩涡发生段相接触处到漩涡发生段三个边的垂直距离均为W1,W2/L4的值在1~4之间,L2的值在2~5倍D之间,R的值在0.5~1.0倍D之间,W1的值在0.1~0.5倍D之间。本发明既能保证冷却效果又能克服加工制造和结构强度困难。 | ||
搜索关键词: | 一种 应用于 冷却 技术 冷气 结构 | ||
【主权项】:
一种应用于气膜冷却技术的旋流冷气腔结构,其特征是:包括冷气导流段、漩涡发生段、圆柱气膜孔,冷气导流段和漩涡发生段相连,圆柱气膜孔安装在漩涡发生段上,冷气导流段为长方体结构,漩涡发生体为一侧具有倒圆角的长方体结构,圆柱气膜孔为圆柱体结构;漩涡发生段的倒圆角半径为R,圆柱气膜孔的直径为D,冷气导流段和漩涡发生段的高度之和为L2,冷气导流段截面的长为L4,冷气导流段截面的宽为W2,圆柱气膜孔与漩涡发生段相接触处到漩涡发生段三个边的垂直距离均为W1,W2/L4的值在1~4之间,L2的值在2~5倍D之间,R的值在0.5~1.0倍D之间,W1的值在0.1~0.5倍D之间。
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