[发明专利]一种彩膜基板的制作方法以及彩膜基板、液晶显示面板在审
申请号: | 201610148191.5 | 申请日: | 2016-03-15 |
公开(公告)号: | CN105607337A | 公开(公告)日: | 2016-05-25 |
发明(设计)人: | 杨红;石岩昌 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 李庆波 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种彩膜基板的制作方法以及彩膜基板、液晶显示面板,其制作方法包括:提供一基板;在基板形成黑矩阵,黑矩阵用于定义多个间隔设置的色阻区域;在色阻区域上形成色阻图案;在色阻图案以及黑矩阵上形成取向层,以利用取向层填补色阻图案之间的沟槽。本发明通过直接在色阻图案以及黑矩阵上形成取向层,以利用取向层填补色阻图案之间的沟槽,而不需要再制作平坦层,从而减少了一道制程,增加了生产产能。 | ||
搜索关键词: | 一种 彩膜基板 制作方法 以及 液晶显示 面板 | ||
【主权项】:
一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:提供一基板;在所述基板形成黑矩阵,所述黑矩阵用于定义多个间隔设置的色阻区域;在所述色阻区域上形成色阻图案;在所述色阻图案以及所述黑矩阵上形成取向层,以利用所述取向层填补所述色阻图案之间的沟槽。
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