[发明专利]一种碳纳米管增强型超硬薄膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201610149808.5 申请日: 2016-03-16
公开(公告)号: CN105734566B 公开(公告)日: 2018-01-05
发明(设计)人: 张学宇;吕威 申请(专利权)人: 长春工业大学
主分类号: C23C28/04 分类号: C23C28/04
代理公司: 长春市四环专利事务所(普通合伙)22103 代理人: 张建成
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明公开了一种碳纳米管增强型超硬薄膜的制造方法,该方法采用物理气相沉积和化学气相沉积相互结合的方法,分别交替在基体上沉积氮化钛(TiN)薄膜和碳纳米管,在氮化钛(TiN)硬质薄膜中加入与基体表面平行分布的碳纳米管。利用碳纳米管高强度、高韧性的特点,提高复合超硬薄膜的性能,主要体现在对氮化钛(TiN)薄膜硬度和韧性的提高。
搜索关键词: 一种 纳米 增强 型超硬 薄膜 制造 方法
【主权项】:
一种碳纳米管增强型超硬薄膜的制造方法,该方法包括以下步骤:1)、在被镀材料表面预处理:使用砂纸和抛光布对被镀材料表面进行物理清洗,之后顺序使用金属洗液、酒精超声清洗10分钟,氮气吹干后迅速放入真空设备中,防止表面重新生成氧化膜;2)、在被镀材料表面沉积过渡层:空心阴极激发等离子体放电,在较高负偏压的作用下,用Ar的阳离子轰击被镀材料表面,清除表面残余的杂质;之后根据被镀材料以及超硬薄膜的晶体结构,采用物理气相沉积的方法,在被镀材料表面沉积金属过渡层;减少薄膜与基体材料的晶格常数差,提高膜基结合力;3)、交替沉积碳纳米管和氮化钛薄膜:在过渡层表面通过物理气相沉积的方法沉积一层氮化钛薄膜,控制沉积参数:沉积气压、气体流量、基体负偏压、沉积时间、控制氮化钛薄膜的晶体结构,保证薄膜厚度在90‑110nm;关闭物理气相沉积激发源,通过化学气相沉积的方法激发含碳气源,根据气源的种类调整沉积参数,制备碳纳米管,控制沉积时间,碳纳米管对基体的覆盖率在25%‑40%;关闭化学气相沉积激发源,打开物理气相沉积激发源,沉积氮化钛薄膜,交替往复,根据使用要求制备碳纳米管增强型氮化钛超硬薄膜。
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