[发明专利]一种氮掺杂石墨烯N-rGO与纳米片层团簇MoSe2复合结构及制备方法有效
申请号: | 201610149983.4 | 申请日: | 2016-03-16 |
公开(公告)号: | CN105696014B | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | 马飞;张龙;孙兰;徐可为 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | C25B1/04 | 分类号: | C25B1/04 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 陆万寿 |
地址: | 710049 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种氮掺杂石墨烯N‑rGO与纳米片层团簇MoSe2复合结构的制备方法,用于提高光电化学分解水制氢的效率。它是采用两步水热反应合成,经退火处理,形成了直径约为100nm的MoSe2纳米片层团簇与N‑rGO片层相互缠绕的异质复合结构,MoSe2/N‑rGO复合结构具有比单独MoSe2更优异的可见光吸收特性,且MoSe2与N‑rGO形成的异质界面能够有效抑制光生电子和空穴的复合,增强电子和空穴的分离,在外加电场作用下光生电子迅速被电解液中的H+所俘获,产生氢气。本发明的技术思路简单清晰,该复合结构能够显著增强光电化学分解水析氢的效率。本发明公开了两步水热法制备N‑rGO与MoSe2异质结构以及增强光电化学分解水析氢效率的技术思路。 | ||
搜索关键词: | 复合结构 光电化学分解 纳米片层 团簇 氮掺杂石墨烯 空穴 光生电子 技术思路 水析 制备 两步水热反应 异质复合结构 可见光吸收 水热法制 退火处理 外加电场 异质结构 异质界面 有效抑制 氢气 电解液 水制氢 俘获 片层 缠绕 合成 复合 清晰 | ||
【主权项】:
1.一种氮掺杂石墨烯N‑rGO与纳米片层团簇MoSe2复合结构的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将10~30mg的氧化石墨烯、0.5~5mL的水合肼、浓度为30%的氨水和30mL的去离子水充分混合,得到均匀分散的混合溶液A;其中,氨水与水合肼的体积比为1:(5~50);2)以高压釜为盛放器皿,混合溶液A作为反应物,采用水热法,制备出氮掺杂石墨烯N‑rGO;具体的,将混合溶液A放置于高压釜中,再将高压釜放置于烘箱中,在180℃的温度下反应12h,然后随炉冷却或者水冷后取出反应产物,干燥待用;3)将0.1~0.3g的硒粉溶解于1~10mL的水合肼中,静置20~40h,得到硒粉水合肼溶液;再将氮掺杂石墨烯N‑rGO、1~10mL的硒粉水合肼溶液以及0.1~0.5g的二水合钼酸钠加入到30mL去离子水中,充分混合得到均匀分散的混合溶液B;其中,氮掺杂石墨烯N‑rGO的添加量为二水合钼酸钠添加量的1%~5%;4)以高压釜为盛放器皿,混合溶液B作为反应物,采用水热法,制备出氮掺杂石墨烯N‑rGO与纳米片层团簇MoSe2复合结构的混合物;具体的,水热法的反应温度为200℃,反应时间为10~20h,随炉冷却或者水冷后取出反应产物;5)对混合物进行清洗和烘干,得到MoSe2/N‑rGO复合结构粉末;6)对MoSe2/N‑rGO复合结构粉末进行退火处理,提高MoSe2/N‑rGO复合结构粉末的结晶度和界面状态。
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