[发明专利]用于设备温度稳定的系统和方法在审
| 申请号： | 201610152284.5 | 申请日： | 2016-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN105867465A | 公开（公告）日： | 2016-08-17 |
| 发明（设计）人： | R·D·霍尔宁;G·罗登 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | G05D23/30 | 分类号： | G05D23/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 叶菲;王传道 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及用于设备温度稳定的系统和方法。提供了一种温度稳定的设备和用于温度稳定的方法。温度稳定的设备包括：具有第一表面的基板，装配在基板的第一表面上的至少一个组件，和包括热电材料的第一保形层，其中所述第一保形层在所述至少一个组件之上。第一温度控制电路电耦合到第一保形层。第一温度控制电路被配置为控制通过第一保形层的电流。通过第一保形层的电流被控制以将所述至少一个组件维持在目标操作温度处。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 设备 温度 稳定 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种温度稳定的设备，包括：具有第一表面的基板；装配在基板的第一表面上的至少一个组件；包括热电材料的第一保形层，所述第一保形层在所述至少一个组件之上；以及电耦合到第一保形层的第一温度控制电路，所述第一温度控制电路被配置为控制通过第一保形层的电流；其中，通过第一保形层的电流被控制以将所述至少一个组件维持在目标操作温度处。
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