[发明专利]一种简化的N型IBC电池结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610152527.5 申请日: 2016-03-17
公开(公告)号: CN105576048A 公开(公告)日: 2016-05-11
发明(设计)人: 董鹏;郭辉;屈小勇;张玉明 申请(专利权)人: 西安电子科技大学;中电投西安太阳能电力有限公司
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/042;H01L31/18
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;朱红星
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种简化的IBC电池结构及其制作工艺方法,主要解决现有技术制作IBC电池工艺复杂,制造成本高昂的问题。该IBC电池结构,包括:减反层、N型硅片基体、掺杂层、钝化层、负电极和正电极,其中:减反层设在N型硅片基体的正面,掺杂层包括n+掺杂层和p+掺杂层,该n+掺杂层和p+掺杂层平行交错设在N型硅片基体的背面,钝化层为SiNx膜,设在n+掺杂层和p+掺杂层背面,在n+掺杂层上引出负电极,在p+掺杂层上引出正电极,正负电极设在钝化层背面。本发明简化了现有电池结构中减反层和钝化层的结构和制作方法,提高了生产效率,减低了生产成本。
搜索关键词: 一种 简化 ibc 电池 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种简化的N型IBC电池,包括减反层、N型硅片基体、钝化层、掺杂层及金属电极,其特征在于:所述减反层,设在N型硅片基体的正面;所述掺杂层,采用由n+掺杂层和p+掺杂层构成的硅掺杂层,该n+掺杂层和p+掺杂层平行交错设在N型硅片基体的背面;所述钝化层,设在n+掺杂层和p+掺杂层背面;所述电极,设在钝化层背面,负电极从n+掺杂层引出,正电极从p+掺杂层上引出。
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