[发明专利]具有结构稳定性的半导体器件有效

专利信息
申请号: 201610154256.7 申请日: 2016-03-17
公开(公告)号: CN106560926B 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 郑盛旭;金垧甫;白智唏;郑帐喜 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L27/11519 分类号: H01L27/11519;H01L27/11521;H01L27/11524;H01L27/11551;H01L27/11565;H01L27/11568;H01L27/1157;H01L27/11578
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 李少丹;许伟群
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开提供一种具有结构稳定性的半导体器件。该半导体器件包括:垂直交替的导电层和绝缘层的叠层;穿过叠层的支撑体,支撑体中的每个具有等边多边形的横截面,支撑体在第一方向和第二方向上等距离地布置,第一方向和第二方向彼此交叉;以及,分别电耦接到导电层的接触插塞,接触插塞中的每个设置在支撑体中的至少两个相邻的支撑体之间。
搜索关键词: 具有 结构 稳定性 半导体器件
【主权项】:
一种半导体器件,包括:叠层,所述叠层包括交替层叠的导电层和绝缘层;支撑体,所述支撑体穿过叠层,支撑体中的每个具有等边多边形或圆形的横截面,支撑体在第一方向和第二方向上等距离地布置,第一方向和第二方向彼此交叉;以及接触插塞,所述接触插塞分别耦接到导电层,接触插塞中的每个设置在支撑体中的至少两个相邻的支撑体之间。
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