[发明专利]一种曲面轮廓测量方法有效

专利信息
申请号: 201610154361.0 申请日: 2016-03-18
公开(公告)号: CN105823411B 公开(公告)日: 2019-02-22
发明(设计)人: 张正;叶伏秋;程芹 申请(专利权)人: 苏州椒图电子有限公司
主分类号: G01B7/28 分类号: G01B7/28
代理公司: 苏州集律知识产权代理事务所(普通合伙) 32269 代理人: 安纪平
地址: 215163 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明揭示了一种曲面轮廓测量方法,包括将矩阵电路贴附在待测曲面上,通过侦测矩阵电路上相邻两根电场通道之间的距离值,还原各根电场通道的位置数据;沿垂直于所述待测曲面的表面方向改变所述矩阵电路的驱动位置至少一次,采集到多组电场通道的位置数据;根据所述多组电场通道的位置数据,判断各根电场通道的位置状态,并还原待测曲面的形状。本发明相较传统的曲面测量方式,具有测量速度快、测量精度高、生产成本低等优点。
搜索关键词: 一种 曲面 轮廓 测量方法
【主权项】:
1.一种曲面轮廓测量方法,其特征在于,包括以下步骤:将矩阵电路贴附在待测曲面上,通过侦测矩阵电路上相邻两根电场通道之间的距离值,还原各根电场通道的位置数据;沿垂直于所述待测曲面的表面方向改变所述矩阵电路的驱动位置至少一次,采集到多组电场通道的位置数据;根据所述多组电场通道的位置数据,判断各根电场通道的位置状态,并还原待测曲面的形状;所述矩阵电路包括柔性基材和均匀分布在柔性基材中的多根电场通道,每根电场通道均由复数根柔性保护体和至少一根导体组成,所述导体以编织的方式均匀排布在柔性保护体中;所述矩阵电路上相邻两根电场通道之间距离值的计算过程包括:根据起始电场通道的坐标,结合电容测距原理,依次计算得到相邻两根电场通道之间的距离值;所述判断各根电场通道的位置状态包括:判断各根电场通道是否在同一平面上;若△d1=△d2=0,则判断相邻三根电场通道在同一个平面上;若△d1≠0和/或△d2≠0,则判断相邻三根电场通道不在同一个平面上,其中△d1=D1‑D、△d2=D2‑D,△d1、△d2为相邻三个通道的每相邻的两根通道之间的距离变化值,D1、D2表示相邻两根电场通道间的直线距离,D表示相邻两根电场通道间的基材距离。
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