[发明专利]圆筒型的溅射靶、烧结体、成形体及其制造方法在审
| 申请号： | 201610154405.X | 申请日： | 2016-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN106011754A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 山口洋平 | 申请（专利权）人： | JX金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人： | 郭放;许伟群 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供应变小、强度高的圆筒型溅射靶及圆筒型成形体、圆筒型溅射靶、圆筒型烧结体、圆筒型成形体及其制造方法。或者，提供均质性高的圆筒型溅射靶、圆筒型烧结体、圆筒型成形体及其制造方法。本发明的一个实施方式的溅射靶具有圆筒型烧结体，圆筒型烧结体的相对密度为99.7％以上且99.9％以下。另外，圆筒型溅射靶具有隔着规定的间隔而相邻的多个圆筒型烧结体，相邻的多个圆筒型烧结体之间的相对密度之差可以为0.1％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 圆筒 溅射 烧结 成形 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种圆筒型溅射靶，其特征在于，具有隔着间隔而相邻的多个氧化铟锡或氧化铟镓锌的圆筒型烧结体，上述圆筒型烧结体的相对密度为99.7％以上且99.9％以下，相邻的多个上述圆筒型烧结体之间的相对密度之差为0.1％以下。
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