[发明专利]一种利用外推获得具有多次散射目标远场RCS的方法有效
申请号: | 201610156723.X | 申请日: | 2016-03-18 |
公开(公告)号: | CN105572652B | 公开(公告)日: | 2018-01-05 |
发明(设计)人: | 李南京;党娇娇;胡楚锋;陈卫军;徐志浩 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | G01S7/41 | 分类号: | G01S7/41 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心61204 | 代理人: | 王鲜凯 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明提出一种基于近场完备双站信息的近场散射外推方法。该方法首先在获取目标全角域的近场双站散射信息后,对各角度下采集的近场散射数据进行外推处理,然后根据互易定理,将外推后的数据等效为“远场发射、近场接收”数据。接下来对该数据再进行一次外推,使其满足“远场发射、远场接收”的条件,最后取出对角线上的元素获得各角度的远场RCS。 | ||
搜索关键词: | 一种 利用 获得 具有 多次 散射 目标 rcs 方法 | ||
【主权项】:
一种基于多次散射目标的近远场外推方法,其特征在于步骤如下:步骤1:在测量半径满足近场条件R<2D2/λ的空间内,对待测目标进行散射测量得到完备的近场双站散射数据ENN(θtN,θrN),ENN(θtN,θrN)采用矩阵形式表示;其中,上标NN表示近场发射、近场接收;θtN表示各发射角度,范围为‑180°~180°,间隔为1°,t=1,2,……,361;θrN表示各接收角度,范围为‑180°~180°,间隔为1°,r=1,2,……,361,D为目标最大尺寸;步骤2:采用基于合成孔径成像的外推算法,将ENN(θtN,θrN)的每一行作外推计算得到ENF(θtN,θrF);其中,上标NF表示近场发射、远场接收;步骤3:根据互易定理,将步骤2得到的外推数据ENF(θtN,θrF)等效为EFN(θrN,θtF);其中,上标FN表示远场发射、近场接收;步骤4:采用基于合成孔径成像的外推算法,将EFN(θrN,θtF)的每一列作外推计算得到EFF(θrF,θtF);其中,上标FF表示远场发射、远场接收;步骤5:提取EFF(θrF,θtF)矩阵对角线数据,即为各角度下的后向单站远场RCS。
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