[发明专利]一种掩膜板框架模组、蒸镀方法、阵列基板有效

专利信息
申请号: 201610159061.1 申请日: 2016-03-18
公开(公告)号: CN105586568B 公开(公告)日: 2018-01-26
发明(设计)人: 嵇凤丽;梁逸南;白珊珊 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/12;G03F1/64
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 汪源,陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种掩膜板框架模组、蒸镀方法、阵列基板,属于显示技术领域,其可解决现有的掩膜板框架模组中的蒸镀掩膜板的边缘不固定导致的在蒸镀时蒸镀掩膜板的边缘容易卷曲翘起,影响蒸镀效果的问题。本发明的掩膜板框架模组,包括框架、覆盖掩膜板和至少两个蒸镀掩膜板,蒸镀掩膜板依次设置在框架上,两个相邻的蒸镀掩膜板之间具有缝隙,在框架上与缝隙对应的位置设置有第一沟槽;第一沟槽包括第一沟槽焊接部和第一沟槽非焊接部;蒸镀掩膜板包括与第一沟槽焊接部对应的第一子蒸镀掩膜板和与第一沟槽非焊接部对应的第二子蒸镀掩膜板;第一子蒸镀掩膜板的边缘与第一沟槽焊接部的边缘重合。
搜索关键词: 一种 掩膜板 框架 模组 方法 阵列
【主权项】:
一种掩膜板框架模组,其特征在于,包括框架、覆盖掩膜板和至少两个蒸镀掩膜板,所述蒸镀掩膜板依次设置在所述框架上,两个相邻的蒸镀掩膜板之间具有缝隙,在所述框架上与所述缝隙对应的位置设置有第一沟槽;所述第一沟槽包括第一沟槽焊接部和第一沟槽非焊接部;所述蒸镀掩膜板包括与所述第一沟槽焊接部对应的第一子蒸镀掩膜板和与所述第一沟槽非焊接部对应的第二子蒸镀掩膜板;所述第一子蒸镀掩膜板的边缘与所述第一沟槽焊接部的边缘重合。
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