[发明专利]一种测量系统及方法在审
申请号: | 201610159222.7 | 申请日: | 2016-03-17 |
公开(公告)号: | CN105682332A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 赵新才;邹文康;陶世兴;徐乐;李剑;陈韬;温伟峰;何徽;王旭;肖正飞;畅里华;汪伟;刘宁文;彭其先;邓建军 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院流体物理研究所 |
主分类号: | H05H1/00 | 分类号: | H05H1/00 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 何龙 |
地址: | 621900*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明实施例提供了一种测量系统,属于测量技术领域,应用于测量等离子体的分布和速度。所述系统包括:等离子体分布区域、成像装置及图像分析装置,所述成像装置包括光阑、第一偏振分光镜、第一成像器件和第二成像器件。由同一个光源发出的具有预设时间差且偏振方向正交的第一光束和第二光束入射到等离子体分布区域,由等离子体分布区域出射的第一光束在第一成像器件内成像,由等离子体分布区域出射的第二光束在第二成像器件内成像。图像分析装置根据所述第一成像器件和所述第二成像器件所采集的图像获得所述等离子体的分布和速度。此外,基于所述测量系统,本发明还提供了一种测量方法,有效地实现了等离子体的分布和速度的测量。 | ||
搜索关键词: | 一种 测量 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种测量系统,其特征在于,应用于测量等离子体的分布和速度,所述测量系统包括:待测装置、成像装置及图像分析装置,所述待测装置内具有等离子体分布区域,所述成像装置包括光阑、第一偏振分光镜、第一成像器件和第二成像器件,所述第一成像器件的感光面和所述第二成像器件的感光面均与所述第一偏振分光镜耦合,所述第一成像器件的输出端与所述第二成像器件的输出端均与所述图像分析装置耦合;由同一个光源发出的具有预设时间差的第一光束和第二光束入射到所述等离子体分布区域,其中,所述第一光束的偏振方向与所述第二光束的偏振方向正交,由所述等离子体分布区域出射的第一光束经所述光阑限制为预设口径后入射到所述第一偏振分光镜,由所述第一偏振分光镜透射后在所述第一成像器件内成像,由所述等离子体分布区域出射的第二光束经所述光阑限制为预设口径后入射到所述第一偏振分光镜,由所述第一偏振分光镜反射后在所述第二成像器件内成像;所述图像分析装置用于根据所述第一成像器件采集的所述第一光束的图像和所述第二成像器件采集的所述第二光束的图像获得所述离子体分布区域内的等离子体的分布和速度。
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