[发明专利]一种掺银氧化钒热敏薄膜材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610160097.1 申请日: 2016-03-21
公开(公告)号: CN105734504B 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 顾德恩;周鑫;蒋亚东;王志辉 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/18;C23C14/08;C23C14/58
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 张杨
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及探测器和电子薄膜技术领域,具体涉及一种掺银氧化钒热敏薄膜材料及其制备方法。本发明以银为掺杂元素制备,元素摩尔百分比含量为银3‑10%,钒30‑40%,氧50‑67%;其TCR为4.2‑5.5%/K,电阻温度特性呈现出无相变特征,电阻率0.1‑1.1Ω·cm,方阻稳定性在72h后变化率小于10%。先通过溅射工艺分两步沉积银/氧化钒复合薄膜,再通过富氧气氛高温退火得到掺银氧化钒热敏薄膜材料。本发明所制备的掺银氧化钒热敏薄膜材料电阻温度系数高,具有无相变特征,避免了热滞噪声问题,可提高非制冷焦平面器件的灵敏度;且电阻率小,器件可在低偏置条件下工作;其工艺与MEMS工艺兼容性好,适于基于氧化钒热敏薄膜器件的大批量制造。
搜索关键词: 一种 氧化 热敏 薄膜 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种掺银氧化钒热敏薄膜材料,其特征在于:以银为掺杂元素制备得到,掺银氧化钒薄膜各元素摩尔百分比含量为银3-10%,钒30-40%,氧50-67%;其TCR为4.2-5.5%/K,电阻温度特性呈现出无相变特征,电阻率0.1-1.1Ω·cm,方阻稳定性在72h后变化率小于10%;银元素采用纯度高于98%的纯银,钒元素采用纯度高于98%的纯钒。
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