[发明专利]一种紫外再构自微孔聚合物膜的制备方法及应用在审
申请号: | 201610163920.4 | 申请日: | 2016-03-22 |
公开(公告)号: | CN107213802A | 公开(公告)日: | 2017-09-29 |
发明(设计)人: | 胡文翰;肖有昌;李屹;王开宇;杨乾 | 申请(专利权)人: | 苏州信望膜技术有限公司 |
主分类号: | B01D71/06 | 分类号: | B01D71/06;B01D67/00;B01D53/22 |
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地址: | 215121 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种紫外再构自微孔聚合物膜的制备方法及应用,将未经紫外再构的自微孔聚合物材料放在紫外线下照射持续一段时间。在紫外线的照射下,亚甲基基团的共价键被打破,释放出一个氢原子形成自由基离子中间体,受相邻烃基的影响,1,2迁移反应形成环己环。在反应过程中螺旋碳中心被破坏,聚合物链扭曲接近片面,聚合物链之间的堆砌更密集,这导致了聚合材料微孔和自由体积的变小。紫外再构自微孔聚合物膜可用于氢气/二氧化碳,氢气/二氧化碳/一氧化碳,二氧化碳/甲烷,二氧化碳/甲烷/硫化氢,氢气/氮气,氧气/氮气这些混合气的分离。 | ||
搜索关键词: | 一种 紫外 微孔 聚合物 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
一种紫外再构自微孔聚合物膜的制备方法及应用,其特征在于所述紫外再构自微孔聚合物膜包含由如下结构式II组成的聚合物材料。
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