[发明专利]薄膜形成设备、保护膜形成设备以及薄膜形成方法

摘要

本发明提供一种薄膜形成设备、保护膜形成设备以及薄膜形成方法。所述薄膜形成设备包含覆盖衬底和驱动单元的掩模组合件，驱动单元调整掩模组合件与衬底之间的间隔距离。此外，保持衬底和掩模部分的至少一部分彼此间隔开第一间隔距离，使得第一膜形成于衬底上并且以大于第一间隔距离的第二间隔距离形成第二膜。因此，可以容易地堆叠具有彼此不同的尺寸的膜。因此，不需要具有尺寸与彼此不同的膜的尺寸对应的开口的掩模部分。此外，当形成彼此不同的膜时，不需要衬底与掩模部分之间的对准。

主权项

一种薄膜形成设备，用于将具有彼此不同的尺寸的膜堆叠在衬底上，所述薄膜形成设备包括：腔室，其具有其中形成膜的空间；支撑体，其安置于所述腔室中以将所述衬底安放在其上部部分上；掩模组合件，其安置于所述支撑体上以覆盖所述衬底的至少一部分；以及驱动单元，其经配置以调整所述掩模组合件的至少一部分与所述衬底之间的间隔距离。