[发明专利]一种电化学装置隔离膜及其制备方法和用途在审
| 申请号： | 201610168129.2 | 申请日： | 2016-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN105742551A | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 程跃;鲍晋珍;何方波 | 申请（专利权）人： | 上海恩捷新材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01M2/16 | 分类号： | H01M2/16;H01M2/14;H01M10/0525 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张睿 |
| 地址： | 201399 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电化学装置隔离膜及其制备方法和用途。所述隔离膜包括多孔基膜层和功能层；所述多孔基膜层包含多孔基膜或至少一面经过涂覆的多孔基膜；所述功能层包含选自无机材料、有机材料中的至少一种材料；所述功能层包括至少一层结构，且至少有一层包含有机材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电化学 装置 隔离 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
一种电化学装置隔离膜，其特征在于，所述隔离膜包括多孔基膜层和功能层；所述多孔基膜层为多孔基膜或至少一面经过涂覆的多孔基膜；所述功能层包含选自无机材料、有机材料中的至少一种材料；所述功能层包括至少一层结构，且至少有一层包含有机材料。
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