[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法

摘要

本发明提供抑制处理液附着在基板的非处理面上的基板处理装置以及方法。装置具有：保持构件，从下方将基板保持为水平；相向构件，具有与基板的上表面隔开间隙相向的主体部和从主体部的周缘部中至少一部分向保持构件的侧方延伸的延伸设置部。在延伸设置部的顶端侧部分和保持构件的侧面部分中一个部分设置突出部，在另一个部分上设置限制结构，限制构件在以旋转轴为中心的周向上从突出部的前后与其相向，来限制突出部在周向上的相对移动。保持构件和相向构件在周向上的相对移动受到限制，该装置具有使保持构件和相向构件中的至少一方以旋转轴为中心旋转的旋转机构和向基板的处理面喷出处理液的喷嘴，突出部和限制结构比保持构件的上表面靠下方。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，具有：保持构件，从下方将基板保持为大致水平，并具有与所述基板的下表面隔开间隙相向的上表面，该保持构件能够以规定的旋转轴为中心进行旋转，相向构件，具有与由所述保持构件保持的所述基板的上表面隔开间隙相向的主体部和从所述主体部的周缘部中的至少一部分向所述保持构件的侧方延伸的延伸设置部，该相向构件能够以所述旋转轴为中心进行旋转；在所述延伸设置部的顶端侧部分和所述保持构件的侧面部分中的一个部分上设置有突出部，在另一个部分上设置有限制结构，该限制结构在以所述旋转轴为中心的周向上从所述突出部的前后与所述突出部相向配置，来限制所述突出部在所述周向上的相对移动，所述保持构件和所述相向构件在以所述旋转轴为中心的周向上的相对移动通过所述突出部和所述限制结构相互限制，该基板处理装置还具有：旋转机构，使所述保持构件和所述相向构件中的至少一个以所述旋转轴为中心进行旋转，喷嘴，向由所述保持构件保持并旋转的所述基板的处理面喷出处理液；所述突出部和所述限制结构比所述保持构件的上表面靠下方。