[发明专利]防尘薄膜组件有效
申请号: | 201610169089.3 | 申请日: | 2016-03-23 |
公开(公告)号: | CN106019818B | 公开(公告)日: | 2019-12-03 |
发明(设计)人: | 白崎享 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64;G03F1/62 |
代理公司: | 11280 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王勇;王博<国际申请>=<国际公布>=< |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的为提供一种通气孔开口部以及过滤器的大小由于防尘薄膜组件的高度而被限制,但是即使在防尘薄膜组件的高度被限制为低的场合,也会使过滤器的有效面积充分大,防尘薄膜组件封闭空间的内外的压力差得以很快地缓和的防尘薄膜组件。本发明防尘薄膜组件具有防尘薄膜组件框架21,所述防尘薄膜组件框架21上设置的使防尘薄膜组件封闭空间的内外通气的通气孔25以及在所述通气孔25内设置的至少将该通气孔的一部分塞住的过滤器22,其特征在于:所述通气孔25的在防尘薄膜组件封闭空间内侧的开口部以及防尘薄膜组件封闭空间外侧的开口部的至少任一方为向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置。再者,本发明的过滤器优选使向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置的通气孔25的开口部被塞住。 | ||
搜索关键词: | 防尘 薄膜 组件 | ||
【主权项】:
1.一种防尘薄膜组件,具有防尘薄膜组件框架,在所述防尘薄膜组件框架上设置的使防尘薄膜组件封闭空间的内外通气的通气孔以及在所述通气孔内设置的将该通气孔的至少一部分塞住的过滤器,其特征在于:所述通气孔通过所述防尘薄膜组件框架的边内侧或者边外侧形成的鼓出部,所述通气孔的在防尘薄膜组件封闭空间内侧的开口部以及防尘薄膜组件封闭空间外侧的开口部中的至少任一个向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置。/n
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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