[发明专利]片上磁性结构及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201610169775.0 申请日: 2016-03-23
公开(公告)号: CN106024266B 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: H·迪利吉安尼;W·J·加拉格;A·J·科洛克;E·J·奥苏利万;L·T·罗曼基乌;王乃刚 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01F10/13 分类号: H01F10/13;H01F41/20
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 酆迅;张昊
地址: 美国纽*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本公开涉及片上磁性结构及其形成方法,其中一种片上磁性结构包括磁性材料,包括基于磁性材料的总原子数、在从约80至约90原子百分比范围中的钴,基于磁性材料的总原子数、在从约4至约9原子百分比范围中的钨,基于磁性材料的总原子数、在从约7至约15原子百分比范围中的磷,以及基本上分散遍布磁性材料的钯。
搜索关键词: 磁性 结构 及其 形成 方法
【主权项】:
1.一种片上磁性结构,包括:磁性材料,包括基于所述磁性材料的总原子数的在从80至90原子百分比范围内的钴、基于所述磁性材料的总原子数的在从4至9原子百分比范围内的钨、基于所述磁性材料的总原子数的在从7至15原子百分比范围内的磷、以及分散遍布所述磁性材料的钯。
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