[发明专利]一种高电子迁移率晶体管结构在审

专利信息
申请号: 201610171256.8 申请日: 2016-03-23
公开(公告)号: CN105609553A 公开(公告)日: 2016-05-25
发明(设计)人: 陈伟梵;张明伦 申请(专利权)人: 昆山永续智财技术服务有限公司
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L25/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215301 江苏省昆山市*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种高电子迁移率晶体管结构,包括一颗氮化镓材料作成的氮化镓晶体管,及一颗双向高压导通保护二极管;所述氮化镓晶体管与所述双向高压导通保护二极管合封于单一封装体内。本发明在使用时,遇到突波或浪涌,产生了额外的过电压,在损害功率器件之前,启动了双向高压导通保护二极管保护机制,将额外电流导出,进而保护了氮化镓晶体管,可解决氮化镓晶体管在使用时因突波或浪涌产生的器件过电压或雪崩崩溃现象而使器件失效的问题。
搜索关键词: 一种 电子 迁移率 晶体管 结构
【主权项】:
一种高电子迁移率晶体管结构,其特征在于,所述的高电子迁移率晶体管结构包括一颗氮化镓材料作成的氮化镓晶体管,及一颗双向高压导通保护二极管;所述氮化镓晶体管与所述双向高压导通保护二极管合封于单一封装体内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山永续智财技术服务有限公司,未经昆山永续智财技术服务有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610171256.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top