[发明专利]钨膜的成膜方法

摘要

本发明涉及钨膜的成膜方法。[课题]即使进行器件的微细化、复杂化，通过使用氯化钨气体作为原料气体的ALD法，也能够以良好的嵌入性形成具有良好的密合性的钨膜。[解决手段]具备如下工序：主钨膜成膜工序：以间隔腔室内的吹扫的方式依次向腔室内供给氯化钨气体和还原气体来形成主钨膜；以及、初始钨膜成膜工序：先于主钨膜成膜工序，使氯化钨气体的供给量少于主钨膜成膜工序，以间隔吹扫气体的供给的方式依次向腔室内供给氯化钨气体和还原气体，或者同时向腔室内供给氯化钨气体和还原气体，从而在基底膜上形成初始钨膜。

主权项

1.一种钨膜的成膜方法，其特征在于，其为使用作为钨原料气体的氯化钨气体和还原氯化钨气体的还原气体对被处理基板形成钨膜的成膜方法，所述被处理基板配置于保持在减压气氛下的腔室内且表面形成有基底膜，所述成膜方法具备如下工序：主钨膜成膜工序：以间隔所述腔室内的吹扫的方式，依次向所述腔室内供给所述氯化钨气体和所述还原气体来形成主钨膜；以及初始钨膜成膜工序：先于所述主钨膜成膜工序，使所述氯化钨气体的单位时间供给量少于所述主钨膜成膜工序，以间隔吹扫气体的供给的方式依次向所述腔室内供给所述氯化钨气体和所述还原气体，或者同时向所述腔室内供给所述氯化钨气体和所述还原气体，从而在所述基底膜上形成初始钨膜。