[发明专利]用于外延生长装置的腔室部件

摘要

公开了用于外延生长装置的腔室部件。反应腔室由顶板来界定和形成。反应气体在侧壁中所设置的反应气体供应路径中整流，使得在所述反应腔室中的所述反应气体的流动方向上的水平分量对应于从所述反应气体供应路径的开口的中心延伸的方向上的水平分量。对所述外延生长装置的上侧壁、基座和整流板的改进已使得提高了基板上形成的外延层的均匀性和形成速度，从而使得产量更高并且缺陷更少。

主权项

1.一种用于支撑基板于外延生长装置内的基座，所述基座包括：/n环形主体，所述环形主体从中心轴延伸至外部半径，所述环形主体包括顶表面和与所述顶表面相对的底表面，所述顶表面包括：/n内部部分，所述内部部分设置在所述中心轴处，并延伸至内部半径，/n非凹入部分，所述非凹入部分沿所述环形主体的周围设置，以及/n过渡部分，所述过渡部分将所述内部部分连接至所述非凹入部分，所述过渡部分被配置成与所述基板形成邻接并支撑所述基板，其中当所述顶表面面向上并且所述中心轴竖直设置时，所述过渡部分处于比所述内部部分更高的高度并且处于比所述非凹入部分更低的高度；以及/n多个通孔，所述多个通孔从所述顶表面延伸至所述底表面，其中所述多个通孔定位在所述内部部分和所述非凹入部分内，其中在所述内部部分和所述非凹入部分中的所述多个通孔的密度为每平方厘米有至少5.0个通孔，/n所述环形主体的所述外部半径与所述多个通孔中的一个的半径的比为从200至300。/n