[发明专利]靶系统和具有靶系统的用于产生中子和/或中微子的系统有效
申请号: | 201610182413.5 | 申请日: | 2016-03-28 |
公开(公告)号: | CN105828513B | 公开(公告)日: | 2019-04-12 |
发明(设计)人: | 杨磊;张晟;高笑菲;林平;付芬;詹文龙 | 申请(专利权)人: | 中国科学院近代物理研究所 |
主分类号: | H05H6/00 | 分类号: | H05H6/00;H05H3/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张成新 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本发明的实施例公开了一种靶系统和具有该靶系统的用于产生中子和/或中微子的系统。所述靶系统用于中子产生系统和中微子产生系统中的至少一个,所述靶系统包括:用作靶体的固体颗粒;以及通道部件,所述通道部件具有用于固体颗粒通过的相对于水平方向倾斜的通道,所述通道部件具有底壁,在底壁的两个侧边缘部分设置的两个侧壁,所述两个侧壁中的每一个具有束流通过窗,分别用于束流通过以及中子和/或中微子通过。根据本发明的实施例,可以优化颗粒流在通道中的宽度、流速及密堆率,以生产中子或中微子。 | ||
搜索关键词: | 系统 具有 用于 产生 中子 中微子 | ||
【主权项】:
1.一种靶系统,所述靶系统用于中子产生系统和中微子产生系统中的至少一个,所述靶系统包括:用作靶体的固体颗粒;以及通道部件,所述通道部件具有用于固体颗粒通过的相对于水平方向倾斜的通道,所述通道部件具有底壁,在底壁的两个侧边缘部分设置的两个侧壁,所述两个侧壁中的每一个具有束流通过窗,分别用于束流通过以及中子和/或中微子通过,束流通过窗是开口,所述两个侧壁中的每一个都包括:在底壁的两个侧边缘部分的上部设置的两个第一侧壁部分,和在底壁的两个侧边缘部分的下部设置的两个第二侧壁部分,第一侧壁部分和第二侧壁部分之间具有间隙,由此形成所述开口,第一侧壁部分包括第一上部侧壁部分和第一下部侧壁部分,第一下部侧壁部分从第一上部侧壁部分的下端沿着底壁向下并朝向通道的中心延伸,而限定锥形通道部分。
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