[发明专利]一种莫桑石的切割工艺有效

专利信息
申请号: 201610185225.8 申请日: 2016-03-29
公开(公告)号: CN105619229B 公开(公告)日: 2018-07-17
发明(设计)人: 潘志奇;任启磊 申请(专利权)人: 深圳予爱珠宝有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24D7/00;C09G1/04
代理公司: 成都佳划信知识产权代理有限公司 51266 代理人: 马冬新
地址: 518040 广东省深圳市福*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及珠宝领域,尤其涉及一种莫桑石的切割工艺,采用水基的抛光液,配合专用的抛光盘,控制莫桑石与抛光盘表面接触,调控抛光液呈线状添加到莫桑石与抛光盘接触面,然后对莫桑石进行反复切割打磨,抛光盘转速1500‑1800r/min,抛光液添加速度60‑80ml/min;所述的水基抛光液由水和烷基磺酸钠组成,两物质的质量比为2500:1‑3500:1;所述的抛光盘的外圆直径为100‑200mm,内圆直径为30‑60mm,内孔直径为11‑14mm,厚度为13‑16mm。采用水基抛光液,可以带走切磨过程中产生的高温,改善了色泽,同时配合专用的抛光盘,使得莫桑石的产品色级得到较高程度的提高,使消费者可以采用较少的成本而获得比钻石更闪亮,产品色级更高的莫桑石。
搜索关键词: 抛光盘 抛光液 切割 水基抛光液 专用的 抛光盘表面 抛光盘转速 烷基磺酸钠 珠宝领域 质量比 内孔 内圆 切磨 外圆 线状 打磨 钻石 配合 调控
【主权项】:
1.一种莫桑石的抛光工艺,其特征是:采用水基的抛光液,配合专用的抛光盘,控制莫桑石与抛光盘表面接触,调控抛光液呈线状添加到莫桑石与抛光盘接触面,然后对莫桑石进行反复切割打磨,抛光盘转速1500‑1800r/min,抛光液添加速度60‑80ml/min;所述的水基抛光液由水和烷基磺酸钠组成,两物质的质量比为3000:1;所述的抛光盘的外圆直径为100‑200mm,内圆直径为30‑60mm,内孔直径为11‑14mm,厚度为13‑16mm;所述的抛光盘为树脂金刚石砂轮结构,由工作层、基体两部分组成;所述的抛光盘工作层通过常规方式粘结在抛光盘基体的上表面;所述的抛光盘工作层厚度c与抛光盘基体的厚度b比值为6:7;所述的抛光盘工作层是砂轮的工作部分,由金刚石粉,树脂粉,粘合剂粉按质量比2:15:5混匀,烧结而成;所述的金刚石粉粒度w1.0为20000目;所述的抛光盘工作层的金刚石粉分布均匀;所述的抛光盘基体用于承接工作层,并在使用时用法兰盘牢固地夹持在磨床主轴上,材质为铝。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳予爱珠宝有限公司,未经深圳予爱珠宝有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610185225.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top