[发明专利]一种金属微结构及其制作方法有效
| 申请号： | 201610188420.6 | 申请日： | 2016-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN105858591B | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | 张天冲;伊福廷;王波;刘静;张新帅;孙钢杰;王雨婷 | 申请（专利权）人： | 中国科学院高能物理研究所 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 任岩 |
| 地址： | 100049 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种金属微结构及其制作方法，其中方法首先在一平整的基片的表面涂覆一层光刻胶，并对光刻胶进行曝光、显影，以在基片的表面形成光刻胶图形，然后令基片发生形变，以使得所述光刻胶图形随所述基片一同发生形变，接着在基片表面上的非光刻胶图形处，进行金属镀膜，最后去除光刻胶和基片，得到金属微结构。本发明实现了具有不同轴线方向通孔的金属微结构，其在光学成像领域有重要应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 微结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种金属微结构的制作方法，其特征在于，包括：S1，在一平整的基片的表面涂覆一层光刻胶，所述基片在外力作用下可发生形变；S2，对所述光刻胶进行曝光、显影，以在所述基片的表面形成具有长方体阵列结构的光刻胶图形；S3，令所述基片发生形变，以使得所述光刻胶图形随所述基片一同发生形变；S4，在所述基片表面上的非光刻胶图形处，进行金属镀膜；S5，去除所述光刻胶和所述基片，得到具有多个通孔结构的金属微结构。
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