[发明专利]一类双噻吩苯并噻二唑-双噻吩吡咯并吡咯共轭聚合物及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610190323.0 申请日: 2016-03-30
公开(公告)号: CN105622902A 公开(公告)日: 2016-06-01
发明(设计)人: 杜俊平;陈凤华;方少明;田俊峰;李皓;李臻;张亚芳;李闯 申请(专利权)人: 郑州轻工业学院
主分类号: C08G61/12 分类号: C08G61/12;H01L51/30;H01L51/46
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 时立新
地址: 450002 *** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明涉及一类双噻吩苯并噻二唑-双噻吩吡咯并吡咯共轭聚合物及其制备方法,属聚合物光电功能材料设计合成领域。该共轭聚合物具有如下的结构单元:其中,R1为氢原子、C6-C20的烷基;R2为氢原子、氟原子、C6-C20的烷基或烷氧基,R3为C6-C20的烷基,n=2-60。该类聚合物以商品化的双噻吩苯并噻二唑二锡单体,双噻吩吡咯并吡咯二溴单体为反应原料,采用微波协助的Stille缩合聚合反应的方法快速高效制备。本发明结合噻吩、吡咯并吡咯和苯并噻二唑这三种单元的优点,提供一种新型的基于这三种单元的共轭聚合物材料。该聚合物有望应用于有机薄膜晶体管和有机光伏器件中的活性材料。
搜索关键词: 一类 噻吩 噻二唑 吡咯 共轭 聚合物 及其 制备 方法
【主权项】:
一类双噻吩苯并噻二唑‑双噻吩吡咯并吡咯共轭聚合物,其特征在于,所述的共轭聚合物是基于双噻吩苯并噻二唑单元和双噻吩吡咯并吡咯单元的共轭聚合物,其具有如下结构单元:上式中,R1为氢原子或C6‑C20的烷基;R2为氢原子、氟原子、C6‑C20的烷基或烷氧基;R3为C6‑C20的烷基,n=2‑60。
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