[发明专利]一种用于在偏流板表面上制备梯度金属陶瓷复合涂层的方法及装置有效
申请号: | 201610190506.2 | 申请日: | 2016-03-30 |
公开(公告)号: | CN105755422B | 公开(公告)日: | 2017-12-08 |
发明(设计)人: | 刘明;王海军;张伟;谭俊;姜祎 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军装甲兵工程学院 |
主分类号: | C23C4/134 | 分类号: | C23C4/134;C23C4/073;C23C4/06 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)11369 | 代理人: | 史霞 |
地址: | 100000 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于在偏流板表面制备梯度金属陶瓷复合涂层的方法,包括将底层原料粉导入超音速等离子喷涂系统,在喷涂电流的作用下,通过主气流将底层原料粉向基体喷涂;将中间层原料粉导入超音速等离子喷涂系统,在喷涂电流的作用下,通过主气流将中间层原料粉向基体喷涂;将面层原料粉导入超音速等离子喷涂系统,在喷涂电流的作用下,通过主气流将面层向基体喷涂。本发明还公开了一种用于在偏流板表面制备梯度金属陶瓷复合涂层的装置。本发明具有耐高温腐蚀、热冲击、高温冲蚀、常温盐雾腐蚀、耐磨损等诸多性能,并且还具有涂层中的底层结合强度高及导热性好等特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 偏流 表面上 制备 梯度 金属陶瓷 复合 涂层 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种用于在偏流板表面上制备梯度金属陶瓷复合涂层的方法,其特征在于,包括:将底层原料粉导入超音速等离子喷涂系统的主气流喷射路径,在喷涂电流的作用下,通过主气流将所述底层原料粉向基体喷涂,在所述基体上形成底层;将中间层原料粉导入超音速等离子喷涂系统的主气流喷射路径,在喷涂电流的作用下,通过主气流将所述中间层原料粉向基体喷涂,在所述底层上形成中间层;以及将面层原料粉导入超音速等离子喷涂系统的主气流喷射路径,在喷涂电流的作用下,通过主气流将所述面层原料粉向基体喷涂,在所述中间层上形成面层;其中,喷涂所述底层时,所述底层原料粉通过所述超音速等离子喷涂系统中的金属粉通道导入;喷涂所述中间层时,所述中间层原料粉为YSZ和NiCr‑Cr3C2,YSZ通过所述超音速等离子喷涂系统中的陶瓷粉通道导入,设置送粉量的速度为20g/min~100g/min,NiCr‑Cr3C2通过所述超音速等离子喷涂系统中的金属粉通道导入,设置送粉量的速度为50g/min~150g/min;喷涂所述面层时,所述面层原料粉通过所述超音速等离子喷涂系统中的金属粉通道导入;以及所述金属粉通道的喷涂口对应所述喷涂系统中2600K~3200K温度区域,所述陶瓷粉通道的喷涂口对应所述喷涂系统中4500K~5200K温度区域。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
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