[发明专利]一种耐迁移型钙基插层结构聚烯烃抗氧剂及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610190974.X 申请日: 2016-03-30
公开(公告)号: CN105801906A 公开(公告)日: 2016-07-27
发明(设计)人: 冯拥军;焦倩;李殿卿;唐平贵 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: C08K3/22 分类号: C08K3/22;C08K5/5333;C08L23/12
代理公司: 北京金富邦专利事务所有限责任公司 11014 代理人: 揭玉斌;蔡志勇
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种耐迁移型钙基插层结构聚烯烃抗氧剂及其制备方法,本发明基于LDH层板及层间客体的可调控性,利用抗氧剂1425的特殊组成,以抗氧剂1425自身携带的钙离子作为构筑LDH层板的二价金属离子、以抗氧剂1425阴离子作为层间客体,通过共沉淀反应一步制备得到耐迁移型钙基插层结构聚烯烃抗氧剂,克服了抗氧剂1425在聚合物基质中易迁移、易挥发以及抗老化性能弱的缺点,可被广泛应用于塑料产业。
搜索关键词: 一种 迁移 型钙基插层 结构 烯烃 抗氧剂 及其 制备 方法
【主权项】:
一种耐迁移型钙基插层结构聚烯烃抗氧剂,其化学通式为:[Ca2+xM2+1‑x‑yM3+y(OH)2](MP)y·mH2O其中M2+和M3+分别是位于主体层板上的二价和三价金属阳离子,M2+为Mg2+、Zn2+、Ni2+、Fe2+、Cu2+中的任意一种或两种,M3+为Al3+、Co3+、Ti3+、Fe3+、Cr3+中的一种或两种,x、y为金属离子的摩尔含量,0.1≤x≤0.8,0.2≤y≤0.4,0≤x+y≤1;m为层间结晶水分子个数,0.4<m<1.5;MP表示抗氧剂1425的阴离子,即3,5‑二叔丁基‑4‑羟基苄基单乙酯膦酸根,化学式为2(C17H28O4P)Ca。
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