[发明专利]表面增强拉曼衬底的制备方法及表面增强拉曼衬底结构在审
申请号: | 201610191504.5 | 申请日: | 2016-03-30 |
公开(公告)号: | CN105842227A | 公开(公告)日: | 2016-08-10 |
发明(设计)人: | 李俊杰;王玉瑾;全保刚;顾长志 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | G01N21/65 | 分类号: | G01N21/65 |
代理公司: | 北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙) 11391 | 代理人: | 范晓斌;薛峰 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种表面增强拉曼衬底的制备方法及表面增强拉曼衬底结构,涉及微纳米结构的制备领域。所述制备方法包括:选取硅衬底并对硅衬底进行刻蚀以制备出硅金字塔阵列;将硅金字塔阵列放入微波等离子体化学气相沉积系统中以生长石墨烯纳米片;在石墨烯纳米片的表面包覆一层金属颗粒,从而可以获得表面增强拉曼衬底。所述表面增强拉曼衬底结构通过所述制备方法制备。本发明所述制备方法,可以制备出大面积且均一的表面增强拉曼衬底,并且保证了金属颗粒的纯净以避免受到污染。同时,本发明的制备方法简单便捷,成本也较低。采用本发明制备的表面增强拉曼衬底,具有很强的拉曼增强特性和极高的灵敏度。 | ||
搜索关键词: | 表面 增强 衬底 制备 方法 结构 | ||
【主权项】:
一种表面增强拉曼衬底的制备方法,通过石墨烯纳米片与金属颗粒形成具有表面增强拉曼特性的复合结构,包括如下步骤:步骤1、选取硅衬底并对所述硅衬底进行刻蚀以制备出硅金字塔阵列;步骤2、将所述硅金字塔阵列放入微波等离子体化学气相沉积系统中以生长石墨烯纳米片;步骤3、在所述石墨烯纳米片的表面包覆一层金属颗粒,从而可以获得所述表面增强拉曼衬底。
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