[发明专利]半导体存储器件有效
申请号: | 201610192154.4 | 申请日: | 2016-03-30 |
公开(公告)号: | CN106024796B | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | 金钟源;朴亨;李铉民;姜镐宗;朴株院;宋承砇 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/11563 | 分类号: | H01L27/11563;H01L27/11578 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张帆;崔卿虎 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种半导体存储器件包括:堆叠结构,其包括垂直地堆叠在衬底上的各个栅电极以及穿过栅电极的垂直沟道部分;位线,其连接至所述垂直沟道部分;以及多条导线,其连接至所述堆叠结构上的各个栅电极。所述导线形成多个堆叠层,并且包括第一导线和第二导线。布置在离所述衬底第一水平高度的位置处的第一导线的数量与布置在离所述衬底第二水平高度的位置处的第二导线的数量不同。所述第一水平高度与所述第二水平高度不同。 | ||
搜索关键词: | 半导体 存储 器件 | ||
【主权项】:
一种半导体存储器件,包括:堆叠结构,其包括:垂直地堆叠在衬底上的各个栅电极;以及穿过所述栅电极的垂直沟道部分;位线,其连接至所述垂直沟道部分;以及多条导线,其连接至所述堆叠结构上的各个栅电极,所述导线排列为多个堆叠层,并且所述导线包括第一导线和第二导线,其中,布置在离所述衬底第一水平高度的位置处的第一导线的数量与布置在离所述衬底第二水平高度的位置处的第二导线的数量不同;并且其中,所述第一水平高度与所述第二水平高度不同。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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