[发明专利]掩模框架组件、制造其的方法以及制造显示器的方法有效
| 申请号： | 201610195748.0 | 申请日： | 2016-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN106067518B | 公开（公告）日： | 2019-06-21 |
| 发明（设计）人： | 韩政洹 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本申请涉及掩模框架组件、制造掩模框架组件的方法以及制造显示器的方法。掩模框架组件，包括框架和具有与框架接触的第一表面的掩模。掩模包括有效区域和形成在有效区域中的图案孔，其中图案孔配置为允许沉积材料穿过掩模。掩模还包括布置在有效区域的外部并配置为阻挡沉积材料穿过掩模的肋部以及布置在肋部的一部分上的非磁性加强件。 | ||
| 搜索关键词： | 框架 组件 制造 方法 以及 显示器 | ||
【主权项】：
1.掩模框架组件，包括：框架；以及掩模，具有与所述框架接触的第一表面，其中，所述掩模包括：有效区域和形成在所述有效区域中的图案孔，所述图案孔配置为允许沉积材料穿过所述掩模；肋部，布置在所述有效区域的外部并且配置为阻挡所述沉积材料穿过所述掩模；加强孔，所述加强孔形成在所述肋部中并且穿过所述肋部；以及非磁性加强件，布置在所述肋部的一部分上并位于所述加强孔中。
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