[发明专利]涂抹标本制作装置、血液待测样品处理系统、及清洗方法在审
| 申请号： | 201610195886.9 | 申请日： | 2016-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN106323724A | 公开（公告）日： | 2017-01-11 |
| 发明（设计）人： | 山崎充生;品部诚也;丰田明男 | 申请（专利权）人： | 希森美康株式会社 |
| 主分类号： | G01N1/34 | 分类号： | G01N1/34 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 郑天松 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供涂抹标本制作装置，其具备：血液处理部、清洗部、控制部，及用于自外部取得对血液待测样品的关于异常的血细胞的出现的信息的信息取得部。控制部在血液待测样品中出现异常的血细胞时，将在血液待测样品的处理后进行的清洗的清洗条件变更为比第1清洗条件强化的第2清洗条件。 | ||
| 搜索关键词： | 涂抹 标本 制作 装置 血液 样品 处理 系统 清洗 方法 | ||
【主权项】：
涂抹标本制作装置，其具备：用于处理血液待测样品而制作上述血液待测样品的涂抹标本的血液处理部，用于在上述血液待测样品的处理后，在第1清洗条件下清洗上述血液处理部的清洗部，用于控制上述血液处理部及上述清洗部的动作的控制部，及用于自外部取得对上述血液待测样品的关于异常的血细胞的出现的信息的信息取得部，上述控制部在上述血液待测样品中出现异常的血细胞时，将在上述血液待测样品的处理后进行的清洗的清洗条件变更为比上述第1清洗条件强化的第2清洗条件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于希森美康株式会社，未经希森美康株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610195886.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：利用被动采样装置进行大气活性气态汞的采样方法
- 下一篇：粒子测量装置
