[发明专利]基于荧光染料NMM、G-四链体DNA、冠醚和金属离子相互作用的分子逻辑门构建方法有效
申请号: | 201610195971.5 | 申请日: | 2016-03-31 |
公开(公告)号: | CN105866079B | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 李菁菁;石硕;姚天明 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | G16B25/20 | 分类号: | G16B25/20 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 林君如 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于荧光染料NMM、G‑四链体DNA、冠醚和金属离子相互作用的分子逻辑门构建方法,所述的分子逻辑门是基于荧光染料NMM与G‑四链体DNA或冠醚接触荧光强度增强,荧光染料NMM与金属离子接触荧光淬灭的原理构建而成的,以荧光染料NMM的荧光强度为判断依据,当荧光强度小于75时,输出为0,当荧光强度大于75时,输出为1;所述的分子逻辑门包括INHIBIT型逻辑门、IMPLY1型逻辑门和IMPLY2型逻辑门。与现有技术相比,本发明的构建方法构建高效灵敏,简单,快速,选择性好,可应用于抗肿瘤的研究,金属离子和氨基酸的检测等方面。 | ||
搜索关键词: | 基于 荧光 染料 nmm 四链体 dna 金属 离子 相互作用 分子 逻辑 构建 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于荧光染料NMM、G‑四链体DNA、冠醚和金属离子相互作用的分子逻辑门构建方法,其特征在于,所述的分子逻辑门是基于荧光染料NMM与G‑四链体DNA或冠醚接触荧光强度增强,荧光染料NMM与金属离子接触荧光淬灭的原理构建而成的,以荧光染料NMM的荧光强度为判断依据,当荧光强度小于75时,输出为0,当荧光强度大于75时,输出为1;所述的分子逻辑门包括INHIBIT型逻辑门、IMPLY1型逻辑门或IMPLY2型逻辑门;所述的INHIBIT型逻辑门、IMPLY1型逻辑门或IMPLY2型逻辑门构建方法分别如下:(1)取荧光染料NMM溶液为模板,以金属离子溶液或冠醚溶液中的一种或两种为输入信号,冠醚与NMM发生相互作用使得NMM的荧光强度增强,金属离子与NMM发生螯合作用使NMM的荧光淬灭,以NMM的荧光强度为输出信号构建INHIBIT型逻辑门;(2)取荧光染料NMM和冠醚的混合溶液为模板,以Fe3+溶液或EDTA溶液中的一种或两种为输入信号,Fe3+与NMM发生螯合作用使NMM的荧光淬灭,EDTA与NMM和冠醚无作用,EDTA与Fe3+发生螯合作用使NMM的荧光恢复,以NMM和冠醚作用的荧光强度为输出信号构建IMPLY1型逻辑门;(3)取荧光染料NMM和G‑四链体DNA的混合溶液为模板,以Hg2+溶液或半胱氨酸溶液中的一种或两种为输入信号,Hg2+与NMM发生螯合作用使NMM的荧光淬灭,半胱氨酸与NMM和G‑四链体DNA无作用,半胱氨酸与Hg2+结合使NMM和G‑四链体DNA的荧光恢复,以NMM和G‑四链体DNA作用的荧光强度为输出信号构建IMPLY2型逻辑门。
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