[发明专利]一种抗辐射与防辐射相结合的潜望镜式光路结构有效

专利信息
申请号: 201610196209.9 申请日: 2016-03-30
公开(公告)号: CN105652431B 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 寇婕婷;郑重;汪增福;刘宜;张强;蔡斌 申请(专利权)人: 中国科学院合肥物质科学研究院
主分类号: G02B23/16 分类号: G02B23/16;G02B23/08
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司34101 代理人: 何梅生
地址: 230031*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种抗辐射与防辐射相结合的潜望镜式光路结构,其特征是用于固定光路结构的防护框架以竖向通道和连通在竖向通道底部的水平通道构成“L”形光路通道,设置在竖向通道上的上部左侧开口作为光路通道入口,设置在竖向通道上的下部右侧开口作为水平通道光路入口;防护框架的外表设置以铅浇铸成型的防辐射保护层;在“L”形光路通道中,由第一平面反射镜和第二平面反射镜形成与入射光平行的出射光C;抗辐射成像镜头5的光轴与出射光C重合,在抗辐射成像镜头与CCD相机之间,以抗辐射光纤传像束进行信号传输。本发明在强辐射环境下的工作中,其成像元件和成像设备能够保持长时间稳定的工作。
搜索关键词: 一种 辐射 防辐射 相结合 潜望镜 式光路 结构
【主权项】:
抗辐射与防辐射相结合的潜望镜式光路结构,其特征是:设置用于固定光路结构的防护框架(1),所述防护框架(1)是以竖向通道和连通在竖向通道底部的水平通道构成“L”形光路通道;在所述竖向通道的左侧壁上、位于所述竖向通道的上部设置有上部左侧开口,以所述上部左侧开口作为光路通道的光路入口;在所述竖向通道的右侧壁上、位于竖向通道的下部设置有下部右侧开口,以所述下部右侧开口作为所述水平通道的光路入口;所述防护框架(1)为钢结构框架,在所述防护框架(1)的外表设置以铅浇铸成型的防辐射保护层(2);在所述竖向通道中,处在所述光路通道入口位置设置与水平面呈45°夹角的第一平面反射镜(3),呈水平入射的输入光A在所述第一平面反射镜(3)上形成竖直向下的第一反射光B,在所述竖向通道中,处在所述第一平面反射镜(3)的下方设置与所述第一平面反射镜(3)相互平行的第二平面反射镜(4),所述第一反射光B在所述第二平面反射镜(4)上形成朝向水平通道内的水平出射光C;在所述水平通道的尾端,处在所述水平出射光C的光轴位置上设置抗辐射成像镜头(5),使得自光路入口入射的高能射线在水平通道中形成的高能射线覆盖区域是处在抗辐射成像镜头(5)的前方;所述抗辐射成像镜头(5)的前方是指朝向光路入口一侧的方向;固定设置在所述水平通道中的CCD相机(8)位于所述抗辐射成像镜头(5)的后方,在所述抗辐射成像镜头(5)与CCD相机(8)之间,以抗辐射光纤传像束(7)进行信号传输;所述抗辐射成像镜头(5)的结构形式是:沿着所述水平出射光C的光轴方向,自抗辐射成像镜头(5)的入射一侧起,依次设置第一镜片(9)、第二镜片(10)、第三镜片(11)和第四镜片(12);在所述抗辐射成像镜头(5)的成像面上设置光纤传像束入孔(6),所述抗辐射光纤传像束(7)接入在所述光纤传像束入孔(6)中;所述第一镜片(9),其朝向入射一侧的镜面曲率半径为‑3.9mm、背向入射一侧的镜面曲率半径为‑3.4mm,沿光轴的中心厚度为4mm;所述第二镜片(10),其朝向入射一侧的镜面曲率半径为‑3.4mm、背向入射一侧的镜面曲率半径为‑4.78mm、沿光轴的中心厚度为2.8mm;第二镜片(10)与第一镜片(9)之间的中心距为3.7mm;所述第三镜片(11),其朝向入射一侧的镜面曲率半径为9mm,背向入射一侧的镜面曲率半径为‑15.1mm、沿光轴的中心厚度为2mm;第三镜片(11)与第二镜片(10)之间的中心距为3.4mm;所述第四镜片(12),其朝向入射一侧的镜面曲率半径为3.4mm,背向入射一侧的镜面曲率半径为5.3mm、沿光轴的中心厚度为3.2mm;第四镜片(12)与第三镜片(11)之间的中心距为3.7mm;所述第四镜片(12)的中心与光纤入孔的距离为1mm。
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