[发明专利]树脂、抗蚀剂组合物和抗蚀图案的制造方法有效
| 申请号： | 201610200067.9 | 申请日： | 2016-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN106019832B | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 杉原昌子;西村崇 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 杜娟 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明的课题涉及提供一种可以制造形状良好并且抗裂性良好的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物的目的。其解決手段为抗蚀剂组合物，其含有：具有对酸不稳定基团的树脂、含有式(I)所示的结构单元的树脂、产酸剂和溶剂。 |
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| 搜索关键词： | 树脂 抗蚀剂 组合 图案 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种抗蚀剂组合物，其含有：具有对酸不稳定基团的树脂、含有式(I)所示的结构单元的树脂、产酸剂和溶剂；![]()
式(I)中，Ri41表示氢原子或甲基；Ri42表示碳原子数2～7的酰基或氢原子、可被羟基取代的碳原子数1～10的烃基；Ri43表示碳原子数1～6的烷基或碳原子数1～6的烷氧基；p表示0～4的整数，p为2以上时，多个Ri43彼此相同或不同；Z表示含有式(Ia)所示的基团的碳原子数3～20的2价烃基；该烃基所含的亚甲基可替换为氧原子、硫原子、羰基；＊表示与氧原子的键合位点；＊‑((CH2)w‑O)r‑ (Ia)式(Ia)中，w和r各自独立地表示1～10的整数，其中，w为1时，Ri42为碳原子数2～7的酰基。
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