[发明专利]一种球面靶阴极机构及溅射镀膜装置有效
| 申请号： | 201610200294.1 | 申请日： | 2016-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN105671509B | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 徐子明;向勇;傅绍英;闫宗楷;李乐 | 申请（专利权）人： | 成都西沃克真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人： | 詹守琴 |
| 地址： | 610200 四川省成都市双流*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种球面靶阴极机构及溅射镀膜装置，本发明的球面靶阴极机构主要是用来对半球面形状的基材进行溅射镀膜，因此，整个球面靶阴极机构的设计都是基于半球面形状的基材而设定的。具体来说，球面靶阴极机构包括水冷座，靶材，磁钢部件。水冷座的安装台外表面为半球形状表面，所述安装台的半球形状表面上对应安装有所述靶材，使得所述靶材形成球面靶；另外，在所述安装台的内部设置有密封体来密封磁钢部件，并且将磁钢部件排列在所述密封体的半球形状内表面上，用来对半球面形状的基材进行溅射镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 球面 阴极机构 半球形状 安装台 靶材 磁钢 基材 溅射镀膜装置 溅射镀膜 球面形状 密封体 水冷座 半球面形状 部件排列 内部设置 内表面 密封 | ||
【主权项】：
1.一种球面靶阴极机构，用于对半球面形状的基材进行溅射镀膜，其特征在于，包括：水冷座、密封体、靶材、磁钢部件；所述水冷座包括支撑台和安装台；所述支撑台固定在溅镀室内部；所述安装台外表面为半球形状表面；所述安装台开设有凹槽；所述支撑台盖设于所述凹槽上，并固定在所述安装台上，以在所述安装台和所述支撑台之间形成一容置空间；所述靶材对应安装在所述安装台的半球形状表面上，使得所述靶材形成球面靶；所述密封体设置于所述容置空间内，且固定在所述支撑台上；所述密封体也为半球形状，且和所述安装台的外表面同球心；所述密封体将所述容置空间分隔为第一容置空间和第二容置空间；其中，所述第一容置空间位于所述密封体和所述支撑台之间；所述第二容置空间位于所述密封体和所述安装台之间，以供通入冷却液冷却所述靶材；所述磁钢部件设置于所述第一容置空间内，且所述磁钢部件排列在所述密封体的内表面上。
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