[发明专利]离子注入装置的运转方法及清洗方法

摘要

本发明涉及离子注入技术领域，特别是涉及离子注入装置的运转方法及清洗方法，其包括如下步骤引入步骤引入缓慢上升至预设流量的工艺气体；施加步骤施加缓慢上升至预设电压的引出电压；判断步骤判断预设流量和预设电压是否达到目标值，均是，则停止引入工艺气体及停止施加引出电压。上述离子注入装置的运转方法及清洗方法，使得离子源的引出电极系统受到较小的束流冲击，输出电压波动保持在可接受的范围内，同时使得离子源、电极板、工艺腔室等的温度回升至接近注入时的温度时，其所吸附的气体得到释放，重启后气压几乎不再有波动，所引出的离子束相对均匀，从而可以较快启动并稳定离子源。

主权项

一种离子注入装置的运转方法，应用于清洗离子注入装置之后，其特征在于，包括如下步骤：引入步骤：引入缓慢上升至预设流量的工艺气体；施加步骤：施加缓慢上升至预设电压的引出电压；判断步骤：判断预设流量和预设电压是否达到目标值，均是，则停止引入工艺气体及停止施加引出电压；所述缓慢上升包括阶梯上升。