[发明专利]一种基于三离轴抛物面镜和双参考黑体的发射率测量装置

摘要

本发明公开了一种基于三离轴抛物面镜和双参考黑体的发射率测量装置，包括：光谱仪(1)、高温黑体加热装置(2)、样品加热装置(3)、高温参考黑体(4)、低温参考黑体(5)、水平位移平台(6)、电控转台(7)、位移控制系统(8)、计算机(9)、光阑(10)、低温黑体加热装置(11)、离轴剖物面镜Ⅰ(12)、离轴剖物面镜Ⅱ(13)和离轴剖物面镜Ⅲ(14)。本发明实现了1μm～14μm的光谱范围、50℃～800℃温度范围的材料法向光谱发射率测量，该装置减小了仪器短期漂移及环境变化对于测量结果的影响，提高了测量的效率和测量不确定度。

主权项

一种基于三离轴抛物面镜和双参考黑体的发射率测量装置，其特征在于：其包括：光谱仪(1)、高温黑体加热装置(2)、样品加热装置(3)、高温参考黑体(4)、低温参考黑体(5)、水平位移平台(6)、电控转台(7)、位移控制系统(8)、计算机(9)、光阑(10)、低温黑体加热装置(11)、离轴剖物面镜I(12)、离轴剖物面镜II(13)和离轴剖物面镜III(14)；所述光谱仪(1)将接收到的光信号转变为电信号，并发送给计算机(9)；所述光谱仪(1)为傅里叶变换红外光谱仪；所述高温黑体加热装置(2)固定安装在水平位移平台(6)上，其内部安装高温参考黑体(4)，高温参考黑体(4)用于提供高温参考信号；所述高温黑体加热装置(2)的温度范围为50℃～800℃；所述样品加热装置(3)固定安装在水平位移平台(6)上，其内部安装待测样品(15)；所述样品加热装置(3)的温度范围为50℃～800℃；所述水平位移平台(6)固定在水平面上，其功能是在位移控制系统(8)的控制下做水平运动；所述电控转台(7)固定在水平面上，电控转台(7)的轴线与水平面平行；电控转台(7)上安装离轴剖物面镜Ⅰ(12)；电控转台(7)为离轴剖物面镜I(12)提供水平移动、竖直移动和旋转功能；离轴剖物面镜Ⅰ(12)将接收到的光信号反射到离轴剖物面镜II(13)；离轴剖物面镜II(13)的反射光线经光阑(10)后，到达离轴剖物面镜III(14)；离轴剖物面镜III(14)将接收到的光信号反射到光谱仪(1)；所述光阑(10)放置在离轴剖物面镜II(13)和离轴剖物面镜III(14)之间，起到限制视场和消除杂散光的作用；所述低温黑体加热装置(11)固定在水平面上，并且低温黑体加热装置(11)与高温黑体加热装置(2)相对于电控转台(7)的轴线对称；低温黑体加热装置(11)其内部安装低温参考黑体(5)，低温参考黑体(5)用于提供低温参考信号；所述低温黑体加热装置(11)的温度范围为50℃～800℃；所述计算机(9)分别与光谱仪(1)和位移控制系统(8)连接；计算机(9)的作用是：①接收光谱仪(1)发送来的电信号，计算待测样品(15)的光谱发射率；②给位移控制系统(8)提供位移控制信号；所述位移控制系统(8)分别与计算机(9)、水平位移平台(6)和电控转台(7)连接；位移控制系统(8)接收计算机(9)发送来的位移控制信号，控制水平位移平台(6)和电控转台(7)运动。