[发明专利]红外短中波能量调节滤光镜在审
| 申请号： | 201610202365.1 | 申请日： | 2016-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN105717568A | 公开（公告）日： | 2016-06-29 |
| 发明（设计）人： | 付秀华;陈志航;张静;刘冬梅 | 申请（专利权）人： | 长春理工大学 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 陶尊新 |
| 地址： | 130022 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 红外短中波能量调节滤光镜，由氟化钙基底配合光学膜系实现能量调节，属于光学薄膜技术领域。现有红外制导仿真系统缺少一种红外短波、中波能量比模拟源，为此我们发明了一种红外短中波能量调节滤光镜。本发明之红外短中波能量调节滤光镜其特征在于，在氟化钙基底一侧镀有光学膜系；所述光学膜系其构成自氟化钙基底一侧向外依次为|0.5H3.6L1.5H1.9L8.8H2.9L1.8H1.0L5.8H2.5L0.5H|，其中，H为Ge层，L为SiO层，共11层，H、L前面的数字为膜层厚度，单位均为nm；所述光学膜系的总物理厚度为1592nm，其中各Ge层的总厚度为652.7nm。本发明获得的出射光的短中波积分能量比为1.2，满足红外制导仿真系统的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 红外 中波 能量 调节 滤光 | ||
【主权项】：
一种红外短中波能量调节滤光镜，其特征在于，在氟化钙基底(1)一侧镀有光学膜系(2)；所述光学膜系(2)其构成自氟化钙基底(1)一侧向外依次为|0.5H3.6L1.5H1.9L8.8H2.9L1.8H1.0L5.8H2.5L0.5H|，其中，H为Ge层，L为SiO层，共11层，H、L前面的数字为膜层厚度，单位均为nm；所述光学膜系(2)的总物理厚度为1592nm，其中各Ge层的总厚度为652.7nm。
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