[发明专利]一种转印方法和重复转印方法有效

专利信息
申请号: 201610203465.6 申请日: 2016-04-01
公开(公告)号: CN105856888B 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 魏伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: B41M5/025 分类号: B41M5/025
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 汪源;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种转印方法和重复转印方法,所述转印方法包括:对转印模的转印面进行表面改性处理以降低所述转印面的表面自由能,在所述转印面上形成液态材料层,对所述液态材料层进行固化处理以形成固态材料层,将所述固态材料层从所述转印模脱模。本发明提供的技术方案对转印模进行表面改性处理,从而降低转印面的表面自由能,由于表面改性处理之前的转印面的原子间作用力大于表面改性处理之后的转印面的分子间作用力,因此针对所有物质进行转印都能够获得较好的转印效果。另外,本发明提供的技术方案在低温环境中对转印模进行表面改性处理,避免高温环境导致模具表面发生形变,从而提高了转印精度和生产效率,简化了工艺流程,降低了生产成本。
搜索关键词: 一种 方法 复转
【主权项】:
1.一种转印方法,其特征在于,包括:对转印模的转印面进行表面改性处理,以降低所述转印面的表面自由能;在所述转印面上形成液态材料层;对所述液态材料层进行固化处理,以形成固态材料层;将所述固态材料层从所述转印模脱模;所述转印模的构成材料包括有机材料,所述对转印模的转印面进行表面改性处理的步骤包括:对转印模的转印面进行第一紫外线照射,以将转印模的表面残存的未完全固化的树脂单体继续固化以及去除转印膜的表面残存的活性自由基,以降低所述转印面的表面自由能。
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