[发明专利]具有接触塞的半导体装置及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201610206422.3 申请日: 2016-04-05
公开(公告)号: CN106067464B 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 尹彰燮;金盛民;赵治元 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L27/11;H01L21/8238
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;尹淑梅
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体装置包括第一鳍有源区、基本上与第一鳍有源区平行的第二鳍有源区、位于第一鳍有源区中的第一源/漏区、位于第二鳍有源区中的第二源/漏区、位于第一源/漏区上的第一接触塞以及位于第二源/漏区上的第二接触塞。第二接触塞的中心从第二源/漏区的中心偏移。
搜索关键词: 具有 接触 半导体 装置 及其 形成 方法
【主权项】:
一种半导体装置,所述半导体装置包括:第一鳍有源区;第二鳍有源区,基本上与第一鳍有源区平行;第一源/漏区,位于第一鳍有源区中;第二源/漏区,位于第二鳍有源区中;第一接触塞,位于第一源/漏区上;以及第二接触塞,位于第二源/漏区上,其中,第二接触塞的中心从第二源/漏区的中心偏移。
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