[发明专利]一种碳纳米管遮光罩的优化设计方法有效
申请号: | 201610207443.7 | 申请日: | 2016-04-05 |
公开(公告)号: | CN105866945B | 公开(公告)日: | 2018-05-01 |
发明(设计)人: | 梁士通;郝云彩;余成武;梅志武;张运方;刘婧;陈建峰 | 申请(专利权)人: | 北京控制工程研究所 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G03B11/00;G06F17/50 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心11009 | 代理人: | 陈鹏 |
地址: | 100080 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种碳纳米管遮光罩的优化设计方法,包括步骤如下一、确定遮光罩(1)的长度、直径和各挡光环的刃口位置;二、确定加权系数w1,w2的值;三、建立优化目标函数TWij;四、计算获得TWij;如果TWij>ε,ε为目标值,进入步骤五;如果TWij≤ε,获得TWij对应的α1j,α2j,...,αij,...αnj,进入步骤七;五、计算各挡光环散射光能量进入光学系统(2)的能量D1,D2,...,Dn并排序;六、对D1,D2,...,Dn中最大值对应的挡光环与光轴的夹角αij进行调整,返回步骤三;七、根据获得的各挡光环与光轴的夹角的最终值,获得各挡光环的位置。本发明解决了基于碳纳米高吸收率涂层遮光罩的设计问题,解决了目前设计方法中重杂光强度而忽略杂光分布均匀性的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 遮光 优化 设计 方法 | ||
【主权项】:
一种碳纳米管遮光罩的优化设计方法,其特征在于,包括步骤如下:步骤一、根据光学系统(2)的入射光瞳直径、视场角、焦距和遮光罩抑制角,确定遮光罩(1)的长度、直径和各挡光环的刃口位置,使一次散射光无法直接进入光学系统(2)内部;遮光罩(1)的长度L、直径d1由下式确定:L=dtanω1-tanω+L1]]>d1=dtanω1+tanωtanω1-tanω+2h1]]>其中,d为光学系统(2)入射光瞳直径,ω为光学系统(2)半视场角,ω1为遮光罩抑制角,L1为遮光罩(1)长度方向中的预留尺寸,h1为远离光学系统(2)的遮光罩(1)端口处的挡光环的高度和遮光罩(1)外壁厚度之和;步骤二、确定加权系数w1,w2的值;w1+w2=1,w1≥0,w2≥0;步骤三、建立优化目标函数:TWij=w1Eij+w2SLNUij=f(α1j,α2j,…,αij,…αnj),其中,αij为以第i个挡光环刃口位置为旋转中心旋转第i个挡光环到达第j个位置后,第i个挡光环与光轴的夹角;i=1,2,3,......,n,n为正整数;j=1,2,3,......,m,m为正整数;Eij为像面照度,Ek(ij)是将像面(3)划分为p个等大的网格后第k个网格内的照度,k=1,2,3,......,p,p为正整数;Eave(ij)为像面(3)平均照度;步骤四、计算获得TWij;如果TWij>ε,进入步骤五,其中,ε为目标值;如果TWij≤ε,获得TWij对应的各挡光环与光轴的夹角α1j,α2j,...,αij,…αnj,进入步骤七;步骤五、计算获得第i个挡光环到达第j个位置时,各挡光环散射进入光学系统(2)的能量D1,D2,…,Di,...,Dn,并对D1,D2,…,Di,...,Dn进行排序;各挡光环散射进入光学系统(2)的能量Di=Φ×(BRDF)2×F12(θ1i,θ2i);其中,Φ为入射在各挡光环表面的入射辐射通量;BRDF为遮光罩(1)内部喷涂的涂层的双向散射分布函数,通过测量获得;F12(θ1i,θ2i)为光学系统(2)入射光瞳直径和各挡光环间的辐射换热角系数,θ1i为入射光瞳对第i个挡光环的立体角,θ2i为第i个挡光环对入射光瞳的立体角;步骤六、对D1,D2,…,Di,...,Dn中最大值对应的挡光环与光轴的夹角αij进行调整,αij=αij+βj,βj为调整角;返回步骤三;步骤七、根据获得的各挡光环与光轴的夹角α1j,α2j,...,αij,…αnj最终值,获得各档光环的位置。
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