[发明专利]垂直磁记录介质和磁记录再现装置有效
| 申请号： | 201610208270.0 | 申请日： | 2016-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN106057217B | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 徐晨;黑川刚平 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/667 | 分类号： | G11B5/667;G11B5/725;G11B5/733 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供垂直磁记录介质和磁记录再现装置。本发明的垂直磁记录介质是在非磁性基板上依次至少层叠背衬层、基底层、中间层、垂直磁记录层而成的，其中，所述背衬层至少具备具有非晶质结构的软磁性膜，所述基底层是从所述非磁性基板侧起层叠第1基底层和第2基底层而成的，所述第1基底层由非晶质结构的TiV合金构成，所述第2基底层包含NiW合金，所述中间层包含Ru或Ru合金，具有所述非晶质结构的软磁性膜、第1基底层、第2基底层相接地设置。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 记录 介质 再现 装置 | ||
【主权项】：
1.一种垂直磁记录介质，其是在非磁性基板上依次至少层叠背衬层、基底层、中间层和垂直磁记录层而成的，其特征在于，所述背衬层至少具备具有非晶质结构的软磁性膜，并且具有依次层叠了第1软磁性膜、Ru膜、第2软磁性膜的结构，所述基底层是从所述非磁性基板侧起层叠第1基底层和第2基底层而成的，所述第1基底层由非晶质结构的TiV合金构成，所述第2基底层包含NiW合金，所述中间层包含Ru或Ru合金，所述具有非晶质结构的软磁性膜、第1基底层、第2基底层相接地设置。
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