[发明专利]光掩模坯、抗蚀剂图案形成方法和光掩模的制造方法有效
| 申请号： | 201610212743.4 | 申请日： | 2016-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN106054529B | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 阿达铁平;渡边聪;土门大将;增永恵一 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004;G03F7/00;G03F1/00;G03F1/40 |
| 代理公司： | 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 杜丽利 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 光掩模坯具有化学增幅型负型抗蚀剂膜，该化学增幅型负型抗蚀剂膜包括(A)包含特定结构的重复单元和具有氟的重复单元的聚合物，(B)适于在酸的作用下降低其在碱显影剂中的溶解性的基础树脂，(C)产酸剂，和(D)碱性化合物。该抗蚀剂膜对于抗静电膜的接受性得到改善。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模坯 抗蚀剂 图案 形成 方法 光掩模 制造 | ||
【主权项】：
1.光掩模坯，其包括适于曝光于高能辐照的化学增幅型负型抗蚀剂膜，还包括在该抗蚀剂膜上的抗静电膜,/n所述抗蚀剂膜包含：/n(A)包含由通式(1)表示的重复单元和具有至少一个氟原子的重复单元的聚合物，/n(B)适于在酸的作用下降低其在碱显影剂中的溶解性的基础树脂，/n(C)产酸剂，和/n(D)碱性化合物，/n
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