[发明专利]一种磺酸基修饰的抗生物污染涂层的制备方法在审
申请号: | 201610212753.8 | 申请日: | 2016-04-07 |
公开(公告)号: | CN105859154A | 公开(公告)日: | 2016-08-17 |
发明(设计)人: | 周慧芳;吴雪娥;陈晓东 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;C23C22/02 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361005 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 一种磺酸基修饰的抗生物污染涂层的制备方法,涉及抗生物污染材料。将预处理后的基底进行表面羟基化,再放入硅烷偶联剂溶液中静置,实现基底表面硅烷偶联剂自组装,清洗,氮气吹干后烘干,以除去未与基底表面结合牢固的硅烷偶联剂,同时使物理吸附的硅烷偶联剂在基底表面转化为化学吸附;将得到的基底放入H2O2与CH3COOH的溶液中水浴,使巯基氧化为磺酸基,再取出基底清洗,氮气吹干后烘干,即得磺酸基修饰的抗生物污染涂层。方法简便,反应条件温和,制备的磺酸基修饰的基底具有良好的抗蛋白吸附和抗菌功能,可广泛应用于建筑、日用、医疗以及食品加工等领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 磺酸基 修饰 抗生 污染 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种磺酸基修饰的抗生物污染涂层的制备方法,其特征在于包括如下步骤:1)将预处理后的基底进行表面羟基化;2)将表面羟基化后的基底放入硅烷偶联剂溶液中静置,实现基底表面硅烷偶联剂自组装;3)将步骤2)中实现基底表面硅烷偶联剂自组装的基底清洗,氮气吹干后烘干,以除去未与基底表面结合牢固的硅烷偶联剂,同时使物理吸附的硅烷偶联剂在基底表面转化为化学吸附;4)将步骤3)得到的基底放入H2O2与CH3COOH的溶液中水浴,使巯基氧化为磺酸基,再取出基底清洗,氮气吹干后烘干,即得磺酸基修饰的抗生物污染涂层。
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