[发明专利]一种显影装置及使用该显影装置降低水渍缺陷的方法在审
| 申请号： | 201610212877.6 | 申请日： | 2016-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN105717754A | 公开（公告）日： | 2016-06-29 |
| 发明（设计）人： | 马兰涛;朱骏 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种显影装置，具有旋涂机构，并进一步包括：晶圆承载台，通过旋转轴进行旋转，并用于承载待工艺处理之晶圆；第一气体喷嘴和第二气体喷嘴，均与外界洁净气体有压管路连接，并分别设置在位于晶圆承载台上之待工艺处理的晶圆上、下两侧，且第一气体喷嘴和第二气体喷嘴之有压气体朝向待工艺处理之晶圆的边缘喷吹。本发明藉由进一步设置通过旋转轴旋转的晶圆承载台，以及在所述晶圆承载台上之待工艺处理的晶圆上、下两侧设置第一气体喷嘴和第二气体喷嘴，不仅结构简单、使用方便，而且可以在旋转离心力作用的同时，通过洁净气体喷吹，加速残留水渍的脱离和蒸发，降低水渍缺陷，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显影 装置 使用 降低 水渍 缺陷 方法 | ||
【主权项】：
一种显影装置，具有旋涂机构，其特征在于，所述显影装置，进一步包括：晶圆承载台，所述晶圆承载台通过旋转轴进行旋转，并用于承载待工艺处理之晶圆；第一气体喷嘴和第二气体喷嘴，所述第一气体喷嘴和所述第二气体喷嘴均与外界洁净气体有压管路连接，并分别设置在位于晶圆承载台上之待工艺处理的晶圆上、下两侧，且所述第一气体喷嘴和所述第二气体喷嘴之有压气体朝向所述待工艺处理之晶圆的边缘喷吹。
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