[发明专利]一种高灵敏光学氨敏材料的制备方法

摘要

本发明公开了一种高灵敏光学氨敏材料的制备方法，包括以下步骤：1)将P型硅片固定在电解池内，以氢氟酸、乙醇、丙三醇混合而成的溶液作为电解液，进行电化学直流刻蚀，在20m～100mA/cm²刻蚀200～1200s，之后洗涤、干燥；2)在400～550℃氧化1～5小时；3)将酸碱敏感染料与乙醇混合，并添加乙酸水溶液，将酸碱敏感染料溶液负载于纳米多孔材料载体上，最后经干燥后得到高灵敏光学氨敏材料。本发明的氨敏材料以高比表面积的多孔材料作为载体，指示剂负载量大，灵敏度高，其最低可检测0.1ppm的氨气；响应速度快，响应时间在10s以内，可应用于在线检测；制备工艺简单，可实现产业化。

主权项

1.一种高灵敏光学氨敏材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)将P型硅片固定在电解池内，以氢氟酸、乙醇、丙三醇混合而成的溶液作为电解液，P型硅片为阳极，铂片为阴极，进行电化学直流刻蚀，刻蚀的平均电流在20mA/cm2～100mA/cm2，刻蚀时间在200s～1200s，刻蚀后的硅片经洗涤、干燥后得到纳米多孔材料；2)将步骤1)制备的纳米多孔材料在400～550℃氧化1～5小时，得到纳米多孔材料载体；3)将酸碱敏感染料与乙醇混合，形成质量百分数为0.1％～1％的酸碱敏感染料的乙醇溶液，并在酸碱敏感染料的乙醇溶液中添加质量百分数1％～5％的乙酸水溶液，形成酸碱敏感染料溶液，将酸碱敏感染料溶液负载于纳米多孔材料载体上，最后经干燥后得到高灵敏光学氨敏材料。