[发明专利]连续面形石英微光学元件机械-刻蚀复合加工方法在审
| 申请号： | 201610213364.7 | 申请日： | 2016-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN105738980A | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 张为国;朱国栋;张东;熊欣;刘风雷;史浩飞;杜春雷 | 申请（专利权）人： | 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 400714 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 本发明提供一种连续面形石英微光学元件机械‑刻蚀复合加工方法，主要采用高分子材料涂覆及固化、金刚石超精密切削掩模、等离子体刻蚀工艺流程。该方法可实现石英材质微透镜列阵、微柱透镜、菲涅尔透镜等微光学元件的高精度制作，为紫外波段高质量微光学元件的精确制作提供一种有效的解决方案，推动小型化、集成化、紧凑型光电设备的发展。 | ||
| 搜索关键词： | 连续 石英 微光 元件 机械 刻蚀 复合 加工 方法 | ||
【主权项】：
一种连续面形石英微光学元件机械‑刻蚀复合加工方法，其特征在于，该复合加工方法步骤如下：(1)高分子材料的制作：在石英基底上涂覆高分子材料，然后固化；(2)超精密切削掩模：先将固化后的高分子材料连同石英基底整体进行平整化处理，再采用金刚石精密切削出高分子材料的连续面形微结构掩模；(3)等离子体刻蚀传递：采用传递式干法刻蚀，利用等离子体对材料的刻蚀去除作用，将高分子材料微结构传递至石英基底，刻蚀气体种类包括氧气、氩气、三氟甲烷、六氟化硫等气体的一种或几种组合，刻蚀气体流量通常在100sccm以下，刻蚀功率每平方分米不大于300W。
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