[发明专利]一种可分析生长状态的种植温室

摘要

本发明提供一种可分析生长状态的种植温室，属于植物种植设备领域，其包括淋水系统、检测系统、温控系统、光照控制系统、控制系统、苗床和生长状态分析系统，从检测到控制各个系统有机结合在一起，通过对种植温室预先设定参数，利用检测系统和生长状态分析系统检测温室内的环境情况和作物生长状况，控制系统根据环境情况和作物生长状况对各系统发出指令，控制各个系统的运行，可以做到精准地对各种环境控制系统进行调节，保持温室内的环境稳定一致，降低人力成本，本发明提供的种植温室具有功能多、自动化、可分析作物生长状态的优点。

主权项

一种可分析生长状态的种植温室，其特征在于，其包括淋水系统、检测系统、温控系统、光照控制系统、控制系统、苗床和生长状态分析系统；淋水系统包括水泵、滴灌管和攀援架，检测系统包括温度传感器、湿度传感器和墒情传感器，温控系统包括保温顶、热风机、抽风机和水帘，光照控制系统包括遮阳网和太阳灯，控制系统包括处理器（CPU）、随机储存器(RAM)、只读储存器（ROM）和外部储存器，生长状态分析系统包括高清相机和存放于控制系统中的分析软件；苗床位于种植温室底部地面，淋水系统中的滴灌管铺于苗床上，攀援架位于苗床上方，滴灌管和攀援架通过水管与水泵连接，检测系统位于种植温室四角和中心位置，温控系统的保温顶位于种植温室顶部覆盖整个温室，水帘位于种植温室的其中一个侧面，抽风机位于与水帘相对的一面，热风机位于水帘相邻的一面，光照控制系统中的遮阳网位于保温顶上方，太阳灯挂于种植温室顶部且位于保温顶下方，控制系统位于种植室内，通过局域网与各个控制系统连接，控制各系统的运行，生长状态分析系统中的高清相机位于种植温室四面顶部，与控制系统连接。