[发明专利]采用扫描式蒸发源的镀膜装置及其镀膜方法

摘要

本发明涉及薄膜制备技术，具体涉及一种采用扫描式蒸发源的镀膜装置及其镀膜方法，其特征在于：在真空镀膜室内设置盛放基片的镀膜工件架，扫描式蒸发源设置在真空镀膜室上。扫描式蒸发源中的坩埚可以定点、定时、扫描方式运动并进行膜料蒸发；扫描式蒸发源还设置有与真空镀膜室相对独立的加药腔室，可使膜料的添加、预热和真空镀膜室的镀膜工序分隔开来。本发明的优点是：可实现在不借助膜厚补正板的情况下，工件架上所有基片的镀膜厚度满足均匀性要求，提升了膜料利用率和镀膜效率，降低了镀膜成本；能够实现加药腔室中的加药、排气和预热工序与真空镀膜室中的排气、镀膜工序同步进行，提升了生产效率和膜层质量。

主权项

一种采用扫描式蒸发源的镀膜装置，包括真空镀膜室、蒸发源，所述真空镀膜室内设置有镀膜工件架，所述镀膜工件架上放置有基片，所述蒸发源位于于所述真空镀膜室，其特征在于：所述蒸发源为扫描式蒸发源，所述扫描式蒸发源具有坩埚、坩埚移动导向机构，所述坩埚移动导向机构连接控制所述坩埚，以实现所述坩埚在所述真空镀膜室内的移动，所述扫描式蒸发源还具有加药腔室、加药机构、排气机构，所述加药腔室的内腔与所述真空镀膜室的内腔连通，所述坩埚在所述坩埚移动导向机构的丝杆驱动下的移动区间位于由所述加药腔室和所述真空镀膜室形成的连通空间内。